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多元摻雜熱絲化學氣相沉積制備金剛石薄膜的方法

專利號:201210085095申請人:上海交通大學;上海交友鉆石涂層有限公司技術簡要說明:本發明公開了一種多元摻雜熱絲化學氣相沉積制備金剛石薄膜的方法

日期 2012-08-03   

摻氮納米金剛石薄膜的制備方法

專利號:201010277501申請人:西南科技大學技術簡要說明:本發明是摻氮納米金剛石薄膜的制備方法。包括:a、以硝基苯甲醛、C60、氨基酸為原料,合

日期 2012-06-04   

一種高致密納米金剛石薄膜的生長方法

專利號:201110119079申請人:天津理工大學技術簡要說明:一種高致密納米金剛石薄膜的生長方法,采用多步生長法來沉積納米金剛石薄膜,具體步驟如下:

日期 2012-06-04   
金剛石薄膜應用領域及前景介紹

金剛石薄膜應用領域及前景介紹

由于其相對低的成本和能夠在襯底生長連續的多晶薄膜,因而具有如下所示的非常重要和廣闊的應用前景。表1CVD金剛石薄...

日期 2012-05-17   
熱絲化學氣相沉積(HFCVD)制備金剛石薄膜技術

熱絲化學氣相沉積(HFCVD)制備金剛石薄膜技術

河南工業大學材料科學與工程學院楊德威栗正新導讀:本文簡要闡述了熱絲CVD制備金剛石薄膜的技術原理,探討了影響金剛...

日期 2012-04-14   

一種高致密納米金剛石薄膜的生長方法

專利號:CN102212795A申請人:天津理工大學一種高致密納米金剛石薄膜的生長方法,采用多步生長法來沉積納米金剛

日期 2012-04-12   

金剛石薄膜磁性研磨拋光研究

金剛石薄膜磁性研磨拋光研究
金剛石薄膜磁性研磨拋光研究
金剛石薄膜磁性研磨拋光研究

摘要:表面粗糙度是影響金剛石薄膜廣泛應用的主要因素,選擇一種合適的拋光方式可以大幅度降低表面粗糙度,以加速其商業化應用的進程。文中針對內孔金剛石薄膜,提出了一種新的拋光...

日期 2011-09-05   

非晶碳類金剛石薄膜摩擦學特性及其應用

非晶碳類金剛石薄膜摩擦學特性及其應用
非晶碳類金剛石薄膜摩擦學特性及其應用
非晶碳類金剛石薄膜摩擦學特性及其應用

【摘要】綜合地介紹了類金剛石膜研究現狀,著重說明了非晶碳類金剛石薄膜的摩擦學特性,分析了沉積方法、摻雜元素、摩擦環境、基體及對偶材料對其摩擦學特性的影響。最后,簡要說明...

日期 2011-09-03   

氮氣對DC-PCVD法制備金剛石薄膜影響的研究

氮氣對DC-PCVD法制備金剛石薄膜影響的研究
氮氣對DC-PCVD法制備金剛石薄膜影響的研究
氮氣對DC-PCVD法制備金剛石薄膜影響的研究

【摘要】采用直流熱陰極等離子體化學氣相沉積方法,用甲烷、氫氣、氮氣的混合氣體在Mo基底上成功制備了金剛石薄膜。分別采用掃描電子顯微鏡(SEM)、X射線衍射儀(XRD)、...

日期 2011-09-01   

氮氣對DC-PCVD法制備金剛石薄膜影響的研究

氮氣對DC-PCVD法制備金剛石薄膜影響的研究
氮氣對DC-PCVD法制備金剛石薄膜影響的研究
氮氣對DC-PCVD法制備金剛石薄膜影響的研究

【摘要】采用直流熱陰極等離子體化學氣相沉積方法,用甲烷、氫氣、氮氣的混合氣體在Mo基底上成功制備了金剛石薄膜。分別采用掃描電子顯微鏡(SEM)、X射線衍射儀(XRD)、...

日期 2011-08-30   

微波CVD金剛石薄膜用作LED散熱片的制備

微波CVD金剛石薄膜用作LED散熱片的制備
微波CVD金剛石薄膜用作LED散熱片的制備
微波CVD金剛石薄膜用作LED散熱片的制備

摘要由于金剛石具有室溫下最高的熱導率,因此用化學氣相沉積(CVD)制備的金剛石膜是大功率發光二極管理想的散熱材料。本文利用微波等離子體CVD研究了不同沉積工藝下金剛石薄...

日期 2011-07-20   

金剛石薄膜的發展、制備及應用

王麗軍,段新超,張雷,王隆洋,王小平(上海理工大學理學院,上海200093)[摘要]簡要介紹了金剛石薄膜的發展,總結了金剛石薄膜的幾種主要制備工藝并對各種工藝的優、缺點...

日期 2011-07-16   

CVD金剛石薄膜產品

CVD金剛石薄膜產品
CVD金剛石薄膜產品
CVD金剛石薄膜產品

一、CVD金剛石薄膜片及制品1、CVD金剛石薄膜片CVD金剛石即化學氣相沉積金剛石,CVD金剛石不含任何金屬或非金屬添加劑,具有最高的硬度、高耐磨性、易于加工,同時具有...

日期 2011-07-14   

金剛石薄膜片狀溫度電阻器

名稱金剛石薄膜片狀溫度電阻器公開號2261066公開日1997.08.27主分類號H01C7/04

日期 2010-12-24   

納米金剛石薄膜高頻手術刀

名稱納米金剛石薄膜高頻手術刀公開號2481292公開日2002.03.13主分類號A61B18/12

日期 2010-12-23   

沉積類金剛石薄膜的鍍膜機

名稱沉積類金剛石薄膜的鍍膜機公開號2408126公開日2000.11.29主分類號C23C14/24

日期 2010-12-23   

回旋電子增強熱絲化學氣相沉積制備金剛石薄膜的方法

名稱回旋電子增強熱絲化學氣相沉積制備金剛石薄膜的方法公開號1355330公開日2002.06.26主分類號C23C1

日期 2010-12-21   

光子-熱絲化學氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法

名稱光子-熱絲化學氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法公開號1355329公開日2002.06.26主分類號C23C1

日期 2010-12-21   

用于電極的導電金剛石薄膜及其制備方法

名稱用于電極的導電金剛石薄膜及其制備方法公開號1341774公開日2002.03.27主分類號C23C16/27&n

日期 2010-12-16   

納米金剛石薄膜的制備裝置

名稱納米金剛石薄膜的制備裝置公開號1332268公開日2002.01.23主分類號C23C16/27

日期 2010-12-16   
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