申請?zhí)枺?01720061446.4
       申請人：中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所
       發(fā)明人：羅海瀚 劉定權(quán) 孔園園 蔡清元

       摘要： 本專利公開了一種以CVD金剛石為基底的遠紅外波段光學(xué)薄膜濾光片，該濾光片以碲化鉛(PbTe)和硒化鋅(ZnSe)為高低折射率薄膜材料，在1?2×10?3Pa真空環(huán)境、200±2℃沉積溫度下，采用熱蒸發(fā)沉積方法在CVD金剛石基底兩側(cè)分別沉積多層膜而成；該遠紅外濾光片能夠?qū)崿F(xiàn)對波長小于5微米波段的截止，平均透過率低于1％，在5?45微米波段平均透過率大于71％。本專利專利的遠紅外波段光學(xué)薄膜濾光片可應(yīng)用于地球輻射探測遠紅外目標識別和深空探測等領(lǐng)域。        主權(quán)利要求：1.一種以CVD金剛石為基底的遠紅外波段光學(xué)薄膜濾光片，其結(jié)構(gòu)為：在基底(2)的一面沉積正面帶通膜系(1)，在基底的另一面沉積反面截止膜系(3)，其特征在于：所述的正面帶通膜系(1)的膜系結(jié)構(gòu)為：基底/0.27H0.95L0.57H0.78L0.69H0.81L0.58H1.01L0.33H2.15L/空氣其中，H表示一個λ0/4光學(xué)厚度的碲化鉛膜層，L表示一個λ0/4光學(xué)厚度的硒化鋅膜層，λ0為中心波長，其波長為5微米，H、L前的數(shù)字為λ0/4光學(xué)厚度比例系數(shù)乘數(shù)；所述的反面截止膜系(3)的膜系結(jié)構(gòu)為：基底/0.34H1.19L0.72H0.98L0.87H1.01L0.73H1.27L0.41H2.69L/空氣其中，H表示一個λ0/4光學(xué)厚度的碲化鉛膜層，L表示一個λ0/4光學(xué)厚度的硒化鋅膜層，λ0為中心波長，其波長為4微米，H與L前的數(shù)字為λ0/4光學(xué)厚度比例系數(shù)。