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東北大學:用碳化硼制備研磨盤的方法

關鍵詞 東北大學 , 碳化硼|2016-09-12 08:39:00|行業專利|來源 中國超硬材料網
摘要 申請號:201610197052.1申請人:東北大學發明人:邢鵬飛李欣王帥高帥波都興紅付念新李大綱曹寶勝摘要:用碳化硼制備研磨盤的方法,屬于磨具的制備領域。方法:1)以優質的碳化硼...
  申請號:201610197052.1
  申請人:東北大學
  發明人:邢鵬飛 李欣 王帥 高帥波 都興紅 付念新 李大綱 曹寶勝

  摘要:用碳化硼制備研磨盤的方法,屬于磨具的制備領域。方法:1)以優質的碳化硼為磨料,分別與樹脂結合劑熱壓成型、陶瓷結合劑高溫燒結、金屬結合劑電鍍或燒結制備碳化硼研磨層;2)通過粘結劑或電鍍,將磨料層和基體相結合制成碳化硼研磨盤。本發明方法,可減少因金剛石硬度過高造成的工件粗糙、崩邊和破裂等現象,增加了研磨面的平整度,提高了工件合格率,降低了后續拋光工序的難度和強度;本發明方法,大幅度降低研磨盤的成本,顯著地提高其經濟效益。

  主權利要求:1.一種用碳化硼制備研磨盤的方法,其特征在于,包括如下步驟:步驟1,配料:按質量比,碳化硼∶樹脂結合劑∶填料=(5~20)∶(2~20)∶(60~95)配料,混合均勻制得粉料,其中:碳化硼的純度為95~99.9%;碳化硼的粒度為2~500μm;碳化硼中硼碳比為3.8~4.5;碳化硼為單晶顆粒,莫氏硬度大于9.35;樹脂結合劑和填料的平均粒度均為20~100μm;步驟2,制備磨料層:(1)將粉料,熱壓成生坯:熱壓的溫度為200~500℃,熱壓的時間為0.3~2h,熱壓的壓力為20~60MPa;(2)將生坯在50~300℃固化1~2h,機械加工制得所需尺寸的樹脂碳化硼磨料層;步驟3,與基體結合:將基體清洗干凈,將樹脂碳化硼磨料層置于基體上,接觸的部位涂抹粘結劑,使樹脂碳化硼磨料層與基體結合牢固,制得樹脂碳化硼研磨盤。
  2.根據權利要求1所述的用碳化硼制備研磨盤的方法,其特征在于,所述的步驟1中,樹脂結合劑可為酚醛樹脂、環氧樹脂、雙馬來酰亞胺、聚酰亞胺樹脂中的一種。
  3.一種用碳化硼制備研磨盤的方法,其特征在于,包括如下步驟:步驟1,配料:按質量比,碳化硼∶陶瓷結合劑∶填料=(5~20)∶(2~20)∶(60~95)配料,混合均勻制得粉料,其中:碳化硼的純度為95~99.9%;碳化硼的粒度為2~500μm;碳化硼中硼碳比為3.8~4.5;碳化硼為單晶顆粒,莫氏硬度大于9.35;陶瓷結合劑和填料的平均粒度均為20~100μm;步驟2,制備磨料層:(1)將粉料,常溫壓制成生坯后,進行干燥,其中,壓制的壓力為5~50MPa,壓制的時間為0.1~2h;干燥的溫度為50~300℃,干燥時間為0.5~5h;(2)將干燥后的生坯,高溫燒結后,機械加工制得所需尺寸的陶瓷碳化硼磨料層,其中,燒結的溫度為600~2000℃,燒結時間為0.5~4h;步驟3,與基體結合:將基體清洗干凈,將陶瓷碳化硼磨料層置于基體上,接觸的部位涂抹粘結劑,使陶瓷碳化硼磨料層與基體結合牢固,制得陶瓷碳化硼研磨盤。
 4.根據權利要求3所述的用碳化硼制備研磨盤的方法,其特征在于,所述的步驟1中,陶瓷結合劑為陶瓷或玻璃。
 5.一種用碳化硼制備研磨盤的方法,其特征在于,包括如下步驟:步驟1,配料:按質量比,碳化硼∶金屬結合劑∶填料=(5~20)∶(2~20)∶(60~95)配料,混合均勻制得粉料,其中:碳化硼的純度為95~99.9%;碳化硼的粒度為2~500μm;碳化硼中硼碳比為3.8~4.5;碳化硼為單晶顆粒,莫氏硬度大于9.35;金屬結合劑和填料的平均粒度均為20~100μm;步驟2,制備磨料層:將粉料,在真空或惰性氣體保護下,熱壓燒結后,機械加工制得所需尺寸的金屬碳化硼磨料層;其中,熱壓的溫度為1000~2300℃,熱壓的時間為0.3~2h,熱壓的壓力為20~60MPa;步驟3,與基體結合:當金屬結合劑為銅基合金粉或鐵基合金粉時:將基體清洗干凈,將金屬碳化硼磨料層置于基體上,接觸的部位涂抹粘結劑,使金屬碳化硼磨料層與基體結合牢固,制得金屬碳化硼研磨盤;當金屬結合劑為鎳或鎳合金時:(1)將金屬碳化硼磨料層進行除油和超聲清洗預處理;將基體進行除銹、除油和陽極腐蝕預處理;(2)將預處理后的基體,進行電鍍;其中,電鍍金屬為鎳或鎳合金,電鍍電流密度為1.0~1.5A/dm2;(3)將預處理后的金屬碳化硼磨料層,通過電鍍植砂的方法與基體結合;其中,電鍍金屬為鎳或鎳合金;電鍍植砂的電流密度為0.1~0.6A/dm2;(4)將金屬碳化硼磨料層與基體結合的部位,進行電鍍,使碳化硼磨料牢固地固定在基體上,制得電鍍碳化硼研磨盤;其中,鍍金屬為鎳或鎳合金,電鍍電流密度為0.8~1.8A/dm2。
 6.根據權利要求1或3或5所述的用碳化硼制備研磨盤的方法,其特征在于,所述的步驟1中,所述的步驟1中,碳化硼的粒度為6~12μm、8~16μm、20~30μm、36~54μm、60~70μm、70~80μm、100~120μm或325~400μm。
 7.根據權利要求1或3或5所述的用碳化硼制備研磨盤的方法,其特征在于,所述的步驟1中,填料為三氧化二鉻粉、氧化鋅粉或白剛玉中的一種或幾種。
 8.根據權利要求1或3或5所述的用碳化硼制備研磨盤的方法,其特征在于,所述的步驟3中,基體為鋁合金或者鐵合金。
 9.根據權利要求1或3或5所述的用碳化硼制備研磨盤的方法,其特征在于,所述的方法制得的碳化硼研磨盤的直徑為50~1500mm。
 

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