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官方微信摘要 名稱一種復合激光化學氣相沉積金剛石膜的方法公開號1221806公開日1999.07.07主分類號C23C16/26&
| 名稱 | 一種復合激光化學氣相沉積金剛石膜的方法 | ||
| 公開號 | 1221806 | 公開日 | 1999.07.07 |
| 主分類號 | C23C16/26 | 分類號 | C23C16/26 |
| 申請號 | 97122035.2 | ||
| 分案原申請號 | 申請日 | 1995.09.11 | |
| 頒證日 | 優先權 | ||
| 申請人 | 中國科學院金屬研究所 | 地址 | 110015遼寧省沈陽市沈河區文化路72號 |
| 發明人 | 馮鐘潮; 趙巖; 張炳春 | 國際申請 | |
| 國際公布 | 進入國家日期 | ||
| 專利代理機構 | 中國科學院沈陽專利事務所 | 代理人 | 張晨 |
| 摘要 | 一種復合激光化學氣相沉積金剛石膜的方法，最低沉積溫度為２５０℃，其特征在于選用波長在３０８nm的ＸeＣl準分子激光作激光源，同時復合輻照紅外激光，波長范圍在１．０６μm～１０．６μm，過程如下：將欲沉積襯底放在高導熱率材料的工作臺上，用ＸeＣl準分子激光和紅外激光輻照襯底欲沉積金剛石膜區，并在預抽真空的反應室中通入能吸收該激光波長的碳氫化合物反應氣（含汽化液體或固體）和氫氣，碳氫化合物反應氣與氫氣的流量比為（１～３）∶１００，在適當工藝條件下，在襯底表面沉積出金剛石膜，工藝條件是：ＸeＣl激光單脈沖能量２０～５０0j/pules；ＸeＣl激光脈寬１５～４０ms；脈沖頻率５～４０Ｈz。本發明所制膜層純度高，沉積溫度低，易于實現，安全可靠。 | ||
豫公網安備41019702003646號