近日，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示，深圳中機(jī)新材料有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“一種用于金剛石襯底的精拋液及其制備方法、金剛石襯底的拋光方法”的專利，公開號(hào)CN120365854A，申請(qǐng)日期為2025年04月。

       本發(fā)明公開了一種用于金剛石襯底的精拋液及其制備方法、金剛石襯底的拋光方法，涉及金剛石加工技術(shù)領(lǐng)域。用于金剛石襯底的精拋液包括第一精拋液或第二精拋液，其中：第一精拋液包括以下原料：第一磨料1-7份、分散劑0.1-1份、懸浮劑0.1-1份、氧化劑2-3份，余量為水，合計(jì)100份，第一磨料包括金剛石或氧化鋁；第二精拋液包括以下原料：第二磨料89-97份、分散劑0.1-1份、氧化劑3-10份，合計(jì)100份，第二磨料包括硅溶膠。通過(guò)氧化劑提高金剛石襯底的表面能，軟化表面，使金剛石襯底更容易與磨料進(jìn)行物理切削；通過(guò)加入分散劑和懸浮劑使磨料顆粒分散均勻，獲得相對(duì)一致的加工表面。

       金剛石作為一種具有極高硬度和硬脆特性的材料，廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域，如電子、光學(xué)、工具加工等。目前需要對(duì)金剛石晶體進(jìn)行切割、研磨、拋光等工序才能夠?qū)饎偸M(jìn)行工業(yè)化利用。

       金剛石拋光技術(shù)主要有機(jī)械拋光、熱化學(xué)拋光、激光拋光和化學(xué)機(jī)械拋光等，其中化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）通過(guò)在機(jī)械拋光過(guò)程中加入氧化劑，氧化碳原子提高拋光速率，是一種利用機(jī)械與化學(xué)氧化協(xié)同作用來(lái)實(shí)現(xiàn)工件表面平坦化的技術(shù)，具有表面損傷小、粗糙度低、設(shè)備簡(jiǎn)單、運(yùn)行維護(hù)成本低，拋光后的表面污染較輕等優(yōu)點(diǎn),。

       但由于金剛石的化學(xué)惰性極高，硬度極高，常規(guī)的拋光液難以達(dá)到理想的超光滑表面和無(wú)損傷表面，因此市面上用于金剛石襯底的精拋液幾乎沒(méi)有。因此開發(fā)可用于金剛石襯底的精拋液，對(duì)于克服金剛石拋光工藝中存在的拋光速率低、表面粗糙度低、表面質(zhì)量差等缺陷具有重要意義。

       關(guān)于中機(jī)新材

       深圳中機(jī)新材料有限公司（簡(jiǎn)稱中機(jī)新材）是一家專注于高硬脆材料和高性能研磨拋光材料的技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)及銷售的高新技術(shù)企業(yè)。有近百項(xiàng)發(fā)明專利；榮獲2022年中國(guó)創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)大賽全國(guó)賽新材料組優(yōu)秀企業(yè)獎(jiǎng)；尤其在第三代半導(dǎo)體晶圓研磨拋光應(yīng)用領(lǐng)域，公司取得多項(xiàng)關(guān)鍵性技術(shù)突破，持續(xù)為客戶高質(zhì)量穩(wěn)定供應(yīng)。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、3C、新能源等領(lǐng)域。