申請?zhí)枺?01720082795.4

       申請人：上海征世科技有限公司 

       發(fā)明人：龔闖 吳劍波 朱長征 余斌 

       摘要：本實用新型提供了一種互嵌結(jié)構(gòu)的CVD金剛石膜片，包括：基板；設(shè)置于所述基板上的金剛石膜；形成在所述金剛石膜上表面的第一阻隔層；形成在所述第一阻隔層上表面的抗應(yīng)力層，且在所述抗應(yīng)力層的上表面具有多個凹槽106；形成在所述抗應(yīng)力層的上表面且填充所述凹槽的第二阻隔層；形成在所述第二阻隔層上表面的硬質(zhì)合金層。該金剛石膜層的防脫落能力相較現(xiàn)有技術(shù)加強了一倍以上，可以滿足更高的切割要求。

       主權(quán)利要求:1.一種互嵌結(jié)構(gòu)的CVD金剛石膜片，其特征在于，包括：基板；設(shè)置于所述基板上的金剛石膜；形成在所述金剛石膜上表面的第一阻隔層；形成在所述第一阻隔層上表面的抗應(yīng)力層，且在所述抗應(yīng)力層的上表面具有多個凹槽；形成在所述抗應(yīng)力層的上表面且填充所述凹槽的第二阻隔層；形成在所述第二阻隔層上表面的硬質(zhì)合金層。

       2.如權(quán)利要求1所述的互嵌結(jié)構(gòu)的CVD金剛石膜片，其特征在于：所述金剛石層的厚度為0.5-1.5mm。

       3.如權(quán)利要求1所述的互嵌結(jié)構(gòu)的CVD金剛石膜片，其特征在于：所述第一阻隔層的材料為氮化硅，所述第二阻隔層的材料為碳化硅，所述抗應(yīng)力層的材料為聚酰亞胺。

       4.如權(quán)利要求1所述的互嵌結(jié)構(gòu)的CVD金剛石膜片，其特征在于：所述第一阻隔層和第二阻隔層的厚度為0.05-0.2mm，所述抗應(yīng)力層的厚度為1-10mm。

       5.如權(quán)利要求1所述的互嵌結(jié)構(gòu)的CVD金剛石膜片，其特征在于：所述硬質(zhì)合金層的厚度為2-10mm。

       6.如權(quán)利要求1所述的互嵌結(jié)構(gòu)的CVD金剛石膜片，其特征在于：所述凹槽的厚度為0.1-0.3mm，寬度為0.2-0.4mm。