申請號：201610866336.5
　　申請人：昆山美淼環?？萍加邢薰?br /> 　　發明人：劉雅妮 左衛雄

　　摘要：一種CVD法制備大面積BDD電極的預處理方法。CVD法是制備金剛石電極的通用方法，制備出大面積金剛石電極的關鍵是預處理，即在基材表面形成大量、均勻的孔，進一步在孔內種植大量、均勻的金剛石晶種。本發明的合金電鍍法是基材表面形成大量、均勻的孔的良好方法。將基材鈦或鈮作為陰極，鈦或鈮的氯化物與氯化鐵的混合物作為電鍍液，進行電鍍處理，鈦或鈮與鐵的合金鍍在陰極表面后，陰極取出，用鹽酸浸泡，以溶解出合金中的鐵，溶出鐵后，陰極表面留下均勻的孔。

　　主權利要求：1.將基材鈦或鈮作為陰極，鈦或鈮的氯化物與氯化鐵的混合物作為電鍍液，進行電鍍處理，鈦或鈮與鐵的合金鍍在陰極表面后，陰極取出，用鹽酸浸泡，以溶解出合金中的鐵，溶出鐵后，陰極表面留下均勻的孔，在孔內種植金剛石的微晶后，即可作為CVD法制備大面積BDD電極的基材。
　　2.如權利要求1所述的電鍍工藝，陰極鍍層的厚度為2~20微米，優選為6~12微米。
　　3.如權利要求1所述的電鍍工藝，鐵鹽與鈦鹽或鈮鹽的比例用于控制基材表面的孔的大小，其摩爾比例為1：3~30，優選為1：5~10。
　　4.如權利要求1所述的電鍍工藝，電流密度50~300安/平米，優選為80~120安/平米。
　　5.如權利要求1所述的方法，鹽酸侵泡的溫度在50~60攝氏度，鹽酸濃度不低于1%，浸泡時間不低于5小時。