申請人: 安徽純源鍍膜科技有限公司
       發明人: 張心鳳; 鄭杰; 尹輝
       摘要： 本實用新型公開了一種類金剛石薄膜離子源中離子的引出裝置，包括安裝于保護外殼左端的隔板，隔板中部橫向安裝有工藝氣體進氣管，隔板左端面安裝有內部擋板，內部擋板外周的隔板上固定有安裝法蘭，安裝法蘭上安裝有離子源擋圈，內部擋板外側間隔安裝有工藝氣體擴散板，工藝氣體擴散板外周設有貫穿安裝在內部擋板和隔板上的陽極，陽極與工藝氣體擴散板之間鎢絲。本實用新型的結構設計新穎，通過工藝氣體擴散板及陽極的結構設計，可以有效提高工藝氣體擴散均勻性，從而使薄膜的均勻性提高和沉積速率，而且二者可調節。  

主權利要求：
       一種類金剛石薄膜離子源中離子的引出裝置，包括安裝于保護外殼左端的隔板，隔板中部橫向安裝有工藝氣體進氣管，隔板左端面安裝有內部擋板，內部擋板外周的隔板上固定有安裝法蘭，其特征在于，所述的安裝法蘭上安裝有離子源擋圈，內部擋板外側間隔安裝有工藝氣體擴散板，工藝氣體擴散板外周設有貫穿安裝在內部擋板和隔板上的陽極，陽極與工藝氣體擴散板之間設有鎢絲。