申請號：201520314102.0
　　申請人：東莞市瑞鼎納米科技有限公司
　　發明人：王俊鋒

　　摘要：本實用新型屬于鍍膜設備技術領域，特別涉及一種CVD金剛石涂層設備，包括真空泵、鍍膜箱體和基片架，所述真空泵與所述鍍膜箱體連通，所述鍍膜箱體具有鍍膜腔，所述基片架設置于所述鍍膜腔內，在所述基片架的兩側分別設置有電極鉬架，兩個所述電極鉬架之間連接有鉭絲。在基片架上安放需鍍膜的樣品，然后通過真空泵將鍍膜腔抽氣至真空狀態，接著通入反應氣體甲烷和氮氣，再利用鉭絲碳化后加熱產生高溫將氫氣裂解電離成氫原子和等離子體，氫原子等離子體再將甲烷中的氫元素剝離形成大量有活性化學鍵的碳，碳碳相連組成金剛石，最后使得金剛石涂覆在樣品上。本實用新型結構簡單、涂層效果理想、被涂覆的產品使用壽命長。 　　主權利要求：1.CVD金剛石涂層設備，其特征在于：包括真空泵、鍍膜箱體和基片架，所述真空泵與所述鍍膜箱體連通，所述鍍膜箱體具有鍍膜腔，所述基片架設置于所述鍍膜腔內，在所述基片架的兩側分別設置有電極鉬架，兩個所述電極鉬架之間連接有鉭絲。
　　2.根據權利要求1所述的CVD金剛石涂層設備，其特征在于：所述基片架包括基片臺和主軸，所述主軸的輸出端連接所述基片臺。
　　3.根據權利要求1所述的CVD金剛石涂層設備，其特征在于：每個所述電極鉬架包括電極桿及與所述電極桿連接的鉭絲固定桿。
　　4.根據權利要求1所述的CVD金剛石涂層設備，其特征在于：所述真空泵通過抽氣管道與所述鍍膜箱體連通。
　　5.根據權利要求1所述的CVD金剛石涂層設備，其特征在于：所述鍍膜箱體連接有進氣管道。