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高溫應用碳化硅場效應晶體管及其使用和制造方法

關鍵詞 碳化硅場效應晶體管|2010-12-24 00:00:00|行業專利|來源 中國超硬材料網
摘要 名稱高溫應用碳化硅場效應晶體管及其使用和制造方法公開號1347570公開日2002.05.01主分類號H01L29/

 

名稱 高溫應用碳化硅場效應晶體管及其使用和制造方法 
公開號 1347570  公開日 2002.05.01   
主分類號 H01L29/78  分類號 H01L29/78;H01L29/24;H01L21/336 
申請號 00806545.4   
分案原申請號   申請日 2000.04.20   
頒證日   優先權 1999.4.22__SE_9901440-9 
申請人 阿克里奧股份公司    地址 瑞典基斯塔  
發明人 安德瑞·康斯坦特諾夫;克里斯托弗·哈里斯;蘇珊·薩維  國際申請 PCT/SE00/00773 2000.4.20 
國際公布 WO00/65660 英 2000.11.2  進入國家日期 2001.10.22  
專利代理機構 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所    代理人 王永剛   
摘要   用于高溫應用的SiC場效應晶體管具有與其中設置了柵極(12)的前表面(14)垂直分開的源區層(4)、漏區層(5)和溝道區層(6、7),在晶體管工作時用于減小所述前表面的電場,在作為氣體傳感器工作情況下,容許除了柵極以外的所有電極被保護而不暴露于氣氛。  
 

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日期 2010-12-24   行業專利
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