| 名稱 | 一種低溫鍍復金剛石薄膜的方法及設備 | ||
| 公開號 | 1138635 | 公開日 | 1996.12.25 |
| 主分類號 | C23C16/26 | 分類號 | C23C16/26 |
| 申請號 | 95111077.2 | ||
| 分案原申請號 | 申請日 | 1995.06.16 | |
| 頒證日 | 優先權 | ||
| 申請人 | 南京大學; 南京大學天地金鋼石鍍膜技術開發中心 | 地址 | 210093江蘇省南京市漢口路22號 |
| 發明人 | 王志超 | 國際申請 | |
| 國際公布 | 進入國家日期 | ||
| 專利代理機構 | 南京大學專利事務所 | 代理人 | 黃嘉棟 |
| 摘要 | 一種鍍復金剛石薄膜的方法和設備，它是應用高頻等離子體化學汽相沉積法以一氧化碳和氮氣為氣源，在襯底表面鍍覆金剛石薄膜。用本發明的方法可以在室溫至５００℃溫度下鍍覆金剛石薄膜，因而在塑料、鋼、鐵等襯底表面都能鍍覆金剛石薄膜。本發明的鍍覆設備價廉易行，可適用于不同大小和形狀的工件。 | ||
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