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半絕緣碳化硅基底上基于氮化物的晶體管

關鍵詞 氮化物 , 晶體管 |2010-12-23 00:00:00|行業專利|來源 中國超硬材料網
摘要 名稱半絕緣碳化硅基底上基于氮化物的晶體管公開號1309816公開日2001.08.22主分類號H01L29/778&

 

名稱 半絕緣碳化硅基底上基于氮化物的晶體管 
公開號 1309816  公開日 2001.08.22   
主分類號 H01L29/778  分類號 H01L29/778 
申請號 99808532.4   
分案原申請號   申請日 1999.06.02   
頒證日   優先權 1998.6.12 US 09/096,967 
申請人 克里公司    地址 美國北卡羅萊納  
發明人 斯科特·T·謝帕德;斯科特·T·阿倫;約翰·W·帕爾莫  國際申請 PCT/US99/12287 1999.6.2 
國際公布 WO00/04587 英 2000.1.27  進入國家日期 2001.01.11  
專利代理機構 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所    代理人 王以平   
摘要   一種高電子遷移率晶體管(HEMT)(10)包括一個半絕緣碳化基底(11),在基底上是氮化鋁緩沖層(12),在緩沖層上面是絕緣的氮化鎵層(13),氮化鎵層上是活性氮化鋁鎵結構(14),其上是鈍化層 (23),和至氮化鋁鎵結構的源、漏極和柵接點(21,22,23)。  
 

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