名稱 | 半絕緣碳化硅基底上基于氮化物的晶體管 | ||
公開號 | 1309816 | 公開日 | 2001.08.22 |
主分類號 | H01L29/778 | 分類號 | H01L29/778 |
申請號 | 99808532.4 | ||
分案原申請號 | 申請日 | 1999.06.02 | |
頒證日 | 優先權 | 1998.6.12 US 09/096,967 | |
申請人 | 克里公司 | 地址 | 美國北卡羅萊納 |
發明人 | 斯科特·T·謝帕德;斯科特·T·阿倫;約翰·W·帕爾莫 | 國際申請 | PCT/US99/12287 1999.6.2 |
國際公布 | WO00/04587 英 2000.1.27 | 進入國家日期 | 2001.01.11 |
專利代理機構 | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人 | 王以平 |
摘要 | 一種高電子遷移率晶體管(HEMT)(10)包括一個半絕緣碳化基底(11),在基底上是氮化鋁緩沖層(12),在緩沖層上面是絕緣的氮化鎵層(13),氮化鎵層上是活性氮化鋁鎵結構(14),其上是鈍化層 (23),和至氮化鋁鎵結構的源、漏極和柵接點(21,22,23)。 |