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鄭州華晶金剛石股份有限公司

日本研制出研磨薄膜的超精密研磨系統

關鍵詞 研磨薄膜 , 金剛石 , 研磨|2013-09-03 09:56:28|來源 慧聰表面處理網
摘要 我國主要以砂紙、砂帶、PVA砂輪甚至研磨膏來進行加工外圓精磨或精拋加工。砂紙、研密膏需要熟練的技術工人進行操作,而且效率很低,砂帶、PVA砂輪雖然在大面積加工時效率高,但由于工具本...
  我國主要以砂紙、砂帶、PVA砂輪甚至研磨膏來進行加工外圓精磨或精拋加工。砂紙、研密膏需要熟練的技術工人進行操作,而且效率很低,砂帶、PVA砂輪雖然在大面積加工時效率高,但由于工具本身和機械的局限性,超精密研磨效果不是十分理想。目前,國外如美國、日本研制成功研磨薄膜的精密研磨系統,使加工產品拋光效果更加精細一致。
   
       美國3M公司精密研磨系統,主要是以涂附了磨料的薄膜持繼以單方向加工,磨削及拋光的接觸面均為未經使用的高精度磨料。由于磨料不會重復使用,避免了一般精拋時所出現的工件首尾拋光效果不一的弊病。3M精密研磨系統的優點還包括確保工件本身形狀不會產生擺動、震動紋,砂輪容易更換,操作容易,可節省多達50%的工作時間,拋光效果更加精密(<0.025~μm)。
   
       研磨薄膜是在厚度為25~l00μm左右的聚脂薄膜基體上用合成樹脂粘結劑均勻涂附幾十個μm以細磨粒的研磨工具。
   
       研磨薄膜的結構有四大要素:
   
       (1)基材:聚脂薄膜857(PET),縱橫向抗拉強度大,伸縮性小,強韌厚度均勻、平穩。基材的厚度標準為:25、50、75μm。隨著現在自動化的要求,需要較長的薄膜,厚的薄膜不合要求,故又有7、10、12、23、27、30、37μm系列。
   
       (2)磨粒:在日本主要使用Al2O3、SiC,還有Cr2O3(磨磁頭)、CeO2、人造金剛石單晶、多晶、FeO等。需要粒度程細,且要分布均勻,這就要求嚴格控制粒度分布,不能有大粒。美國3M精密研磨產生有四種磨粒:Al2O3、SiC、人造盒剛石、CBN。所有磨粒均經精細篩選,使用時不會有粗糙花紋,其產品具有防水性能,干式或濕式均可。
   
       (3)粘結劑:主要是高分子樹脂和數十種化合物添加劑。常用的有丙烯、環氧、胺基甲酸乙脂。前兩種比較硬,后一種較軟。一般要求在薄膜上進行兩次涂附,第一次涂附是增加薄膜的附著力。
   
       (4)涂附;主要采用靜電法和滾涂法。靜電法時結合劑為苯酚.基材為聚脂薄膜.磨料為A12O3、SiC。滾涂法主要是借助印刷技術,磨料與粘結劑混合滾涂,涂附厚度由滾筒控制,即調節輥子的聞隙來調整。另外還有混煉法、燒結法、電鍍法、鍍Ni法。
   
       日本的研磨薄膜耐熱溫度為使用的高分子粘結材料的溫度,大約25O℃。研磨時以濕式加工為原則,冷卻液為水、油,一般的水即可滿足要求(如自來水)精密加工時用純水,磨鋁合金時用燈油。
   
       使用研磨薄膜的精密研磨系統將是以后拋光精加工的趨勢,它比砂帶工具更先進。可提高生產能力及效率,合格率高、質量好,拓寬生產范圍,對整個研磨工序可準確控制。再制率低,員工稍經訓練即可上崗操作。可以說將來精拋光行業將是研磨薄膜工具的世界。 
 

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