硅激光研究出現(xiàn)重大進展
關鍵詞 硅 , 激光 , 研究 , Intel公司|2005-07-11 00:00:00|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 2月16日Intel公司宣布,利用硅生產(chǎn)工藝取代目前制造激光所需的昂貴材料和工藝,生產(chǎn)出一種內(nèi)含8個連續(xù)Raman激光芯片,芯片中的激光器可發(fā)射連續(xù)的激光流,激光流可被調(diào)制為代表數(shù)...
2月16日Intel公司宣布,利用硅生產(chǎn)工藝取代目前制造激光所需的昂貴材料和工藝,生產(chǎn)出一種內(nèi)含8個連續(xù) Raman激光芯片,芯片中的激光器可發(fā)射連續(xù)的激光流,激光流可被調(diào)制為代表數(shù)據(jù)的脈沖流。廉價的光學器件不僅能帶來速度更快的計算機,還將導致更低廉、更精確的醫(yī)療設備。硅激光器可能至少5年時間里不會進入市場。但這種芯片將激發(fā)業(yè)界對硅激光技術的熱情和興趣。Raman激光利用1928年由諾貝爾獲獎者Chandrasekhara Venkata Raman發(fā)現(xiàn)的Raman效應產(chǎn)生激光。硅材料中的Raman效應比標準玻璃強1萬倍。但是,硅材料若發(fā)出激光,就必須解決釋放的電子云。為了解決這個問題,Intel的芯片在硅室周圍形成一個電場,電場驅(qū)散電子云, 使激光可以被捕獲、放大和發(fā)射。
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