名稱 | 一種高溫碳化硅半導(dǎo)體材料制造裝置 | ||
公開(kāi)號(hào) | 1327092 | 公開(kāi)日 | 2001.12.19 |
主分類號(hào) | C30B25/02 | 分類號(hào) | C30B25/02;C30B29/36 |
申請(qǐng)?zhí)?/strong> | 00109107.7 | ||
分案原申請(qǐng)?zhí)?/strong> | 申請(qǐng)日 | 2000.06.07 | |
頒證日 | 優(yōu)先權(quán) | ||
申請(qǐng)人 | 中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 | 地址 | 100083北京市912信箱 |
發(fā)明人 | 李晉閩;孫國(guó)勝;朱世榮;曾一平;孫殿照;王雷 | 國(guó)際申請(qǐng) | |
國(guó)際公布 | 進(jìn)入國(guó)家日期 | ||
專利代理機(jī)構(gòu) | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 湯保平 |
摘要 | 一種高溫碳化硅半導(dǎo)體材料制造裝置,包括前級(jí)進(jìn)樣室、樣品傳遞裝置、樣品生長(zhǎng)裝置、插板閥和抽氣設(shè)備;其中樣品傳遞裝置、前級(jí)進(jìn)樣室、插板閥和樣品生長(zhǎng)裝置通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)CF或標(biāo)準(zhǔn)VCR依序連接密封在一直線上;前級(jí)進(jìn)樣室和樣品生長(zhǎng)裝置的下方連接有一抽氣設(shè)備;本發(fā)明其是兼有高生長(zhǎng)速率和原位及實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)的新型碳化硅寬帶隙材料的高真空制造裝置,能夠克服上述現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)缺陷,能夠滿足碳化硅器件對(duì)材料的要求。 |