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一文了解芯片化學機械拋光(CMP)技術

一文了解芯片化學機械拋光(CMP)技術
一文了解芯片化學機械拋光(CMP)技術
一文了解芯片化學機械拋光(CMP)技術

一、化學機械拋光(CMP)簡介化學機械拋光(ChemicalMechanicalPolishing,簡稱CMP)技術是一種依靠化學和機械的協(xié)同作用實現(xiàn)工件表面材料去除的...

日期 2025-06-26   
全球化學機械拋光金剛石圓盤修整器行業(yè)2025市場規(guī)模有望突破25億美元

全球化學機械拋光金剛石圓盤修整器行業(yè)2025市場規(guī)模有望突破25億美元

化學機械拋光(CMP)金剛石圓盤修整器是一種用于修整金剛石圓盤的設備,主要用于金剛石圓盤的表面修整和磨損均勻化。...

日期 2025-02-10   

論文推介丨金剛石化學機械拋光研究進展

論文推介丨金剛石化學機械拋光研究進展
論文推介丨金剛石化學機械拋光研究進展
論文推介丨金剛石化學機械拋光研究進展

金剛石以優(yōu)異的性能在力學、光學、熱學和電子學(如半導體)等領域發(fā)揮著重要作用。然而,金剛石表面質(zhì)量會影響其在這些領域的應用效果,因此通過高效拋光技術獲得高質(zhì)量表面一直是...

日期 2024-12-13   

金剛石化學機械拋光研究進展

金剛石化學機械拋光研究進展
金剛石化學機械拋光研究進展
金剛石化學機械拋光研究進展

金剛石以優(yōu)異的性能在力學、光學、熱學和電子學(如半導體)等領域發(fā)揮著重要作用。在半導體、散熱等領域,僅2023年金剛石的市場規(guī)模達到數(shù)億美元的增幅,且火熱程度仍將持續(xù)。...

日期 2024-11-20   
單晶金剛石技術將首次應用于化學機械拋光中

單晶金剛石技術將首次應用于化學機械拋光

隨著半導體技術的飛速發(fā)展,化學機械拋光(CMP)作為一項關鍵工藝,承擔著集成電路制造中平整化處理的重任。CMP工...

日期 2024-09-13   
“芯片制造化學機械拋光電鍍金剛石修整盤”項目擬立項 武漢超硬材料企業(yè)獲資金支持

“芯片制造化學機械拋光電鍍金剛石修整盤”項目擬立項 武漢超硬材料企業(yè)獲資金支持

近日,武漢市科創(chuàng)局公示了《2024年度第一批科技成果轉(zhuǎn)化項目擬立項項目》,來自武漢市匯達材料科技有限公司的“芯片...

日期 2024-08-16   
關于薄膜金剛石的化學機械拋光的研究報告

關于薄膜金剛石的化學機械拋光的研究報告

摘要納米晶金剛石(NCD)可以保留單晶金剛石的優(yōu)越楊晶模量(1100GPa),以及在低溫下生長的能力(

日期 2022-01-26   

金剛石化學機械拋光研究現(xiàn)狀

金剛石化學機械拋光研究現(xiàn)狀
金剛石化學機械拋光研究現(xiàn)狀
金剛石化學機械拋光研究現(xiàn)狀

摘要:金剛石由于其獨特的性質(zhì)成為未來科技的重要材料,但較差的表面質(zhì)量會影響其在高科技領域的應用,因此實現(xiàn)金剛石超精密加工是提高金剛石應用的關鍵?化學機械拋光(CMP)是...

日期 2021-07-30   

化學機械拋光過程拋光液作用的研究進展

化學機械拋光過程拋光液作用的研究進展
化學機械拋光過程拋光液作用的研究進展
化學機械拋光過程拋光液作用的研究進展

摘要化學機械拋光(CMP)已成為公認的納米級全局平坦化精密超精密加工技術。拋光液在CMP過程中發(fā)揮著重要作用。介紹了CMP過程中拋光液的作用的研究進展,綜合歸納了拋光液...

日期 2012-06-06   

化學機械拋光

化學機械拋光的原理是,在機械研磨晶片的同時發(fā)生了化學腐蝕作用,這樣就能除去切片或磨片時所產(chǎn)生的機械表面損傷層(或稱亞表面損傷層),使晶體片表面光潔如鏡,達到預定的拋光效...

日期 2008-03-18   
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2023年9月20日,時隔四年,期待已久的第六屆磨料磨具磨削展覽會在鄭州國際會展中心隆重開幕。本次展覽會由中國機械工業(yè)集團有限公司、國機精工股份有限公司、中國機械國際合作股份有限公司聯(lián)合主辦。旨在推動中國磨料磨具行業(yè)的快速發(fā)展,加強國內(nèi)外企業(yè)的交流與合作。

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